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表皮メッシュの設定

磁場調和解析、過渡解析において、導体表面に生成する表皮メッシュの層数、厚みを設定します。
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設定項目 |
解説 |
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表皮メッシュの層数、厚みを自動設定 |
チェックすると、表皮メッシュの層数、厚みを自動的に設定します。 自動設定値はダイアログに表示されます。 メッシュ設定の要素の次数によって自動設定値が変化します。
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トータル厚み |
生成する表皮メッシュ全層のトータル厚みを、表皮厚み(参照周波数から自動算出)の何倍かで指定します。 |
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成長率 |
表皮メッシュの各層の厚みは等比数列としています。 その公比を設定します。
各層の厚みは、導体表面側を薄く、内側を厚くします。 成長率は、i層目のメッシュ厚みとi+1層目のメッシュ厚みの比です。
例えば層数を3、成長率を2とすると、各層の厚みの比は導体表面から1:2:4 成長率を1とすると1:1:1となります。 |
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層数 |
生成する表皮メッシュの層数を指定します。 |


